清华大学采购等离子体刻蚀机:预算165万
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清华大学采购等离子体刻蚀机:预算165万
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3月29日,清華大學設備采購信息平臺發(fā)布了一則等離子體刻蝕機采購項目的公開招標公告。
據(jù)介紹,該等離子體刻蝕機將用于刻蝕薄膜鈮酸鋰晶圓,從而加工基于薄膜鈮酸鋰晶圓的電光器件。
技術指標要求:
- 真空系統(tǒng):分子泵抽速≥1300L/s、干泵抽速≥100m3/h;
- 下電極:滿足8英寸(200mm)樣品刻蝕需要,更小樣品或碎片可貼片裝載;
- 軟件和控制系統(tǒng):要求自主版權的軟件、Windows操作系統(tǒng)軟件;
- 機臺工藝能力:主要用于刻蝕薄膜鈮酸鋰材料、介質材料等。
等離子刻蝕機,又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。
等離子刻蝕是干法刻蝕中最常見的一種形式,其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體,由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,從而形成了等離子或離子,電離氣體原子通過電場加速時,會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
總結
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