本文操作環(huán)境：Windows7系統(tǒng)，Dell G3電腦。

euv和duv區(qū)別：

1、制程范圍不同

duv：基本上只能做到25nm，Intel憑借雙工作臺(tái)的模式做到了10nm，卻無(wú)法達(dá)到10nm以下。

euv：能滿足10nm以下的晶圓權(quán)制造，并且還可以向5nm、3nm繼續(xù)延伸。

2、發(fā)光原理不同

duv：光源為準(zhǔn)分子激光，光源的波長(zhǎng)能達(dá)到193納米。

euv：激光激發(fā)等離子來(lái)發(fā)射EUV光子，光源的波長(zhǎng)則為13.5納米。

3、光路系統(tǒng)不同

duv：主要利用光的折射原理。其中，浸沒(méi)式光刻機(jī)會(huì)在投影透鏡與晶圓之間，填入去離子水，使得193nm的光波等效至134nm。

euv：利用的光的反射原理，內(nèi)部必須為真空操作。

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總結(jié)

以上是生活随笔為你收集整理的euv和duv区别是什么(」是一项什么样的技术)的全部?jī)?nèi)容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問(wèn)題。

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