ASML 回应:没有面向中国市场推出特别版的光刻机
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7 月 6 日消息,據證券時報,針對有媒體報道 ASML 試圖規避荷蘭新銷售許可禁令,面向中國市場推出特別版 DUV 光刻機事宜,7 月 6 日午后,ASML 回應稱:一直以來 ASML 都遵守所適用的法律條例,公司并沒有面向中國市場推出特別版的光刻機。
此前據 DigiTimes 報道,ASML 試圖規避荷蘭新銷售許可禁令,面向中國市場推出特別版 DUV 光刻機。消息稱,如果該項目繼續推進,中芯國際、華虹等中國半導體企業可以繼續使用荷蘭的設備生產 28 納米及更成熟工藝的芯片。
注意到,此前荷蘭方面正式宣布了最新的決定,要求企業出口先進設備前需要獲得許可證,新規將在 9 月 1 日生效。在荷蘭新規出臺之后,ASML 表示,根據新出口管制條例規定,該公司需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發運最先進的浸潤式 DUV 系統 (即 TWINSCANNXT:2000i 及后續推出的浸潤式光刻系統)。荷蘭政府將決定是否授予或拒發出口許可證,并將向 ASML 提供許可證所附條件的細節。
ASML 在聲明中重點指出,荷蘭政府新頒布的出口管制條例只涉及 TWINSCANNXT:2000i 及后續推出的浸潤式光刻系統 (DUV,深紫外光刻)。而該公司的 EUV 光刻 (極紫外光刻) 系統在此前已經受到限制,其他系統的發運暫未受荷蘭政府管控。
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總結
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