光刻過(guò)程的典型步驟是勻膠，蓋上掩模板，光刻，顯影，制備微米級(jí)或納米級(jí)的圖形。

光掩模

目前光刻圖形化使用的掩模版常為均膠鉻板，即在高潔凈度、平整度的玻璃(蘇打玻璃或石英玻璃)上鍍鉻金術(shù)，覆蓋一層防反射物質(zhì)(Anti-Reflective，AR)，最后涂一層感光膠制備而成。

光刻膠(光阻)

光刻膠也叫光阻聚合物，像膠水一樣粘稠。和相機(jī)的底片感光一樣，在受到照射后會(huì)發(fā)生變化，非化學(xué)放大型光刻膠分為正膠、負(fù)膠以及雙型膠

光刻膠類型特性

正膠	被光照的部分在顯影后會(huì)被去除，被掩模版遮擋而未受到光照的地方不會(huì)被顯影去除。 聚合物成分常為酚醛或環(huán)氧樹脂，常使用醋酸鹽類溶劑
負(fù)膠	被光照的部分在顯影后會(huì)被保留，被掩模版遮擋而未受到光照的地方會(huì)被顯影去除。 最普遍的負(fù)膠是聚異戊二烯，常使用二甲苯為溶劑
雙型膠	根據(jù)顯影液不同可以分別表現(xiàn)出正膠特性或負(fù)膠特性

勻膠

將光刻膠涂于基底上，放入勻速轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)
勻膠厚度為
$ T = \frac{KC^\beta\eta\gamma}{\omega^\alpha} $
其影響因素有轉(zhuǎn)速、分子質(zhì)量、溶液濃度以及平臺(tái)固有的一些屬性。

光刻

光刻系統(tǒng)常分為接觸式、透射投影式和反射投影式。
以負(fù)膠為例，在進(jìn)行光刻時(shí)，被曝光的光刻會(huì)膠形成不溶于顯影液的交聯(lián)聚合物，未被曝光的部分會(huì)被顯影液分解掉。

光學(xué)光刻的分辨率

光刻方式分辨率

接觸式	$R=3\sqrt{\lambda (s+\frac{Z}{2})}$
透射或反射投影式	$R=\frac{k?\lambda }{NA}$

$\lambda$為波長(zhǎng)，s為光學(xué)掩模和光刻膠的距離，Z為光刻膠厚度，NA為數(shù)值孔徑，k為與實(shí)際相關(guān)的系數(shù)，在0.5~1.0間，一般為0.8

光源

光源采用波長(zhǎng)短的紫外光

Type波長(zhǎng)

近紫外(Near UV)	300~600 nm
遠(yuǎn)紫外(Far UV)	250~300 nm
深紫外(Deep UV)	100~250 nm

總結(jié)

以上是生活随笔為你收集整理的光刻技术加工的全部?jī)?nèi)容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問(wèn)題。

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