眾所周知，目前我國芯片發(fā)展被別人牢牢扼住了喉嚨，而光刻機在芯片的制造過程中是重中之重，但是我國科研人員從未停止腳步，中國光刻機最近有了新突破。

首先我們了解一下光刻機為什么難造。技術被“封鎖”。我國一路走來，沒少遭到打壓，技術封鎖這樣的新聞，似乎平常的都不叫新聞，而是老生常談的舊聞了。目前光刻機的技術，荷蘭是最有發(fā)言權的，如果我們可以與之達成合作，那必然可以加速我國芯片研究的進程?？墒菄c國之間的合作不是那么簡單，由于美國的壓制，相關技術被封鎖的死死的。

中國近些年的發(fā)展神速，其實很大程度上來源于起初的引進之后再仿造，可是由于我國在該領域已經落后了幾十年，沒有參照物仿照如何展開？從一張白紙到精彩紛呈很難，況且還是近乎“獨闖天下”，自然是難上加難。

一臺ASML光刻機有著大大小小8萬個左右的零部件，其涉及到的技術也是諸多科研公司結合之后的結果。有人形容ASML光刻機，是集合了人類高智慧的一個作品，甚至它本身就是一個藝術品。就算找到了某一下技術公司合作，也只是一方面的接觸，并不能在這個技術集合的產物中，起到多大的作用。

目前國內實力最強的光刻機廠商是上海微電子，而在2020年6月份，上海微電子披露了一份消息，將會在2021年-2022年期間，正式對外交付一臺28nm制程工藝浸潤式光刻機設備，采用的光源為第四代的ArF，波長為193nm，這也意味著我國的光刻機設備將會從90nm工藝時代邁入到28nm工藝時代。

近日，清華大學公布了一份研究成果，宣布已經找到了一種高功率、高重頻、窄帶寬的相干輻射，波長可覆蓋從太赫茲到極紫外（EUV）波段：SSMB光源。功率更大，穩(wěn)定性更強的SSMB光源，這意味著一旦被成功應用到光刻機上面，那么我們國家將在極紫外光源這一領域有了零到一的突破，這對于我國的光刻機研發(fā)意義非凡。

此外上海微電子方面也傳來了好消息，那就是我國的光刻機將會邁入到14nm工藝制程時代，而此前中芯國際就掌握了14nm制程工藝芯片量產技術，這也意味著我國的芯片產業(yè)鏈將會達到14nm工藝水準，完全不需要依賴外國技術或者是設備，雖然距離高端7nm、5nm工藝芯片技術，還有著較大的技術差距。

我國從未停下對光刻機的研究和研發(fā)，最近也是好消息不斷，這極大的鼓舞了民族信心，不管日后是自護研發(fā)出來也好還是借鑒改造也好，光刻機作為時代最高科技含量的產物，我國勢必將其拿下。

總結

以上是生活随笔為你收集整理的中国光刻机的新突破 清华大学获得光刻机光源新进展的全部內容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

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