刻蚀机可以代替光刻机吗 刻蚀机相对简单
關于光刻機相信大家都已經了解的不少了,但是它他相近的刻蝕機你又了解多少呢?其實刻蝕機技術要比光刻機簡單,那么為什么不用刻蝕機替代光刻機呢?下面了解一下原因。
從源頭延伸,談光刻機那就一定要了解ASML(阿斯麥),以目前的情況來講這家荷蘭企業,稱得上是全球光刻機生產企業的獨角獸,最高端及最先進的光刻機,都是由這家公司生產的,像臺積電、三星、英特爾甚至華為這樣國內頂尖的科技企業,都對其有所依賴。
但是在大家將目光的關注點都放在光刻機上的時候,一定要了解在芯片制造過程當中,其實還有一件設備起到關鍵性作用,這種設備和光刻機類似,那就是刻蝕機,可能很多人對光刻機的了解,要遠遠高于刻蝕機,但這并不足為奇。
光刻機是芯片制造行業的主要載體。他的工作原理是在硅片上涂上一層均勻的光刻膠,然后利用紫外線照在上面,其中還包含了編碼,把需要刻制的東西編碼完成,用光刻技術刻到上面。從而達到保存的效果。光刻機上面是光照部,中間是掩膜版,最后是需要刻制的載體。
光刻機發展至今,目前已經有了很多種形式,但工作原理大同小異,沒什么區別。而且國內現在已經有了自主產權,發展前景很不錯。
蝕刻機與光刻機比起來就有些粗糙了,他是直接把內容刻在載體上,對載體表面進行侵蝕從而達到刻錄的目的。目前國內的蝕刻機有兩種,干刻和濕刻,但是工作原理都相同,利用離子與電壓的結合,達到刻錄的目的。
總的來說,兩種刻制方式都是主流的形式,但刻蝕機是不可能代替光刻機的,刻蝕機相對光刻機來說要比較容易一些。
總結
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