文檔介紹：

形成性考核作業(yè)

學(xué)號(hào)

姓名

課程代碼 110037

課程名稱計(jì)算機(jī)繪圖

評(píng)閱教師

第 4 次任務(wù)

共 4 次任務(wù)

任務(wù)內(nèi)容:

一:繪制標(biāo)題欄和明細(xì)欄(不標(biāo)尺寸)

結(jié)果作答:

繪圖步驟:

步驟一:繪圖環(huán)境設(shè)置

步驟二:表格樣式設(shè)置

步驟三:繪制標(biāo)題欄并調(diào)整尺寸

步驟四:合并單元格、分解表格、匹配線型

命令: _break 選擇對(duì)象:

指定第二個(gè)打斷點(diǎn)或[第一點(diǎn)(F)]:

命令: _break 選擇對(duì)象:

指定第二個(gè)打斷點(diǎn)或[第一點(diǎn)(F)]:

步驟五:繪制明細(xì)欄并調(diào)整尺寸

當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式= 多個(gè)

指定基點(diǎn)或[位移(D)/模式(O)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)] : 8

當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式= 多個(gè)

指定基點(diǎn)或[位移(D)/模式(O)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)] : 8

當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式= 多個(gè)

指定基點(diǎn)或[位移(D)/模式(O)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)] : 8

當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式= 多個(gè)

指定基點(diǎn)或[位移(D)/模式(O)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)] : 8

當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式= 多個(gè)

指定基點(diǎn)或[位移(D)/模式(O)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)] : 8

當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式= 多個(gè)

指定基點(diǎn)或[位移(D)/模式(O)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)] : 8

當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式= 多個(gè)

指定基點(diǎn)或[位移(D)/模式(O)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)] : 8

命令: _line 指定第一點(diǎn):

指定下一點(diǎn)或[放棄(U)]:

指定下一點(diǎn)或[放棄(U)]:

步驟六:分解表格并匹配線型

命令: _break 選擇對(duì)象:

指定第二個(gè)打斷點(diǎn)或[第一點(diǎn)(F)]:

命令: BREAK 選擇對(duì)象:

指定第二個(gè)打斷點(diǎn)或[第一點(diǎn)(F)]:

命令: BREAK 選擇對(duì)象:

指定第二個(gè)打斷點(diǎn)或[第一點(diǎn)(F)]:

步驟七:輸入兩種字高的文字

令: _mtext 當(dāng)前文字樣式: "TH_GBDIM" 文字高度: 5.0000 注釋性: 否

指定第一角點(diǎn):

指定對(duì)角點(diǎn)或[高度(H)/對(duì)正(J)/行距(L)/旋轉(zhuǎn)(R)/樣式(S)/寬度(W)/欄(C)]:

步驟八:多重復(fù)制文字

當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式= 多個(gè)

指定基點(diǎn)或[位移(D)/模式(O)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)/退出(E)/放棄(U)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)/退出(E)/放棄(U)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)/退出(E)/放棄(U)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)/退出(E)/放棄(U)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)/退出(E)/放棄(U)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)/退出(E)/放棄(U)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)/退出(E)/放棄(U)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)/退出(E)/放棄(U)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)/退出(E)/放棄(U)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)/退出(E)/放棄(U)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)/退出(E)/放棄(U)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)/退出(E)/放棄(U)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)/退出(E)/放棄(U)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)/退出(E)/放棄(U)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)/退出(E)/放棄(U)] :

步驟九:編輯修改文字

命令:

請(qǐng)選擇超級(jí)編輯實(shí)體:*取消*

最終結(jié)果貼圖(背景為黑色):

任務(wù)內(nèi)容:

二:完成軸測(cè)圖繪制并標(biāo)注、寫文字

結(jié)果作答:

繪圖步驟:

步驟一:繪圖環(huán)境設(shè)置

步驟二:軸側(cè)環(huán)境設(shè)置

步驟三:繪制底板上平面

命令: _line 指定第一點(diǎn):

指定下一點(diǎn)或[放棄(U)]: 40

指定下一點(diǎn)或[放棄(U)]: 60

指定下一點(diǎn)或[閉合(C)/放棄(U)]: 40

命令: _copy 找到 1 個(gè)

當(dāng)前設(shè)置: 復(fù)制模式= 多個(gè)

指定基點(diǎn)或[位移(D)/模式(O)] :

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)] : 10

指定第二個(gè)點(diǎn)或[陣列(A)/退出(E)/放棄(U)]

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總結(jié)

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