三星打造17nm LPV工艺:28nm+14nm二合一
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三星打造17nm LPV工艺:28nm+14nm二合一
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半導體工藝不只是,因為還有很多芯片并不需要太先進的制程,它們往往不太復雜,但對成本非常敏感。
今天,三星宣布推出全新的17LPV 17nm工藝,意為Low Power Value。
其實,它就是28nm工藝的進化版,融合了28nm BEOL后端工序、14nm FEOL前端工序,也就是在28nm節點的基礎上,加入了14nm FinFET立體晶體管,只需不高的成本,就能享受后者的能效優勢。
三星稱,17nm LPV工藝相比傳統28nm,芯片面積可縮小43%,可以帶來39%的性能提升或者49%的能效提升。
三星17nm LPV工藝的量產時間沒有說,但三星已經宣布第一個服務對象是ISP圖像信號處理器,屬于三星自家的CMOS傳感器產品線。
此外,三星還打造了14nm LPU工藝,意味Low Power Ultimate,但未透露詳情,可能也是28nm BEOL加上14nm FEOL。
總結
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