n型半导体和p型半导体的区别_VNX系列大流量工业型膜堆, 为半导体等行业提供超纯水!...
自20世紀80年代以來,IONPURE?始終以為廣泛的應用提供最優質的電化學解決方案延續著它的領導地位。
IONPURE?持續創新,于2004年推出了VNX 系列大流量CEDI膜堆,單個膜堆的名義產水流量最大可達12.5m3/h。IONPURE?于2018年推出了單個膜堆的名義產水流量為15m3/h的VNX-MAX大流量CEDI膜堆。VNX系列膜堆既可以水平安裝,也可以垂直安裝。
在今天,有數以萬計的IONPURE? CEDI 膜堆安裝在世界范圍的水凈化系統里,為制藥、微電子、電力行業的應用提供高品質的高純水或超純水。
專門設計
VNX55-E和VNX55-EX大流量膜堆專門針對微電子行業所需堆超純水而優化設計。
主要優勢
1 | 電阻率16-18MΩ.cm |
2 | 硼去除率95-99% |
3 | 連續運行,無需再生 |
4 | 鈉離子去除率99.8-99.9% |
5 | 硅去除率95-99% |
6 | 氯離子去除率99.8-99.9% |
案例介紹
01
IONPURE VNX大流量EDI膜堆在
LG Display南京工廠成功運行
項目背景
樂金顯示(LG Display)是全球最大的液晶面板制造商,也是全球最大的薄膜晶體管液晶顯示器面板,有機發光二極管和柔性顯示器供應商和制造商之一。樂金顯示(南京)有限公司,成立于2002年,是LGD在海外投資興建的第一家模組工廠。2015年南京工廠新建高標準超純水系統工程(系統規模為2*45m3/h),由Hansung Cleantec(韓星環境株式會社)籌建。
解決方案
韓星環境(HASCO)是韓國本土著名水處理企業,與IONPURE?有著良好的合作伙伴關系,為了滿足整體工程嚴苛、穩定的出水性能以及環境需求,超純水終端使用了美國Evoqua懿華水處理旗下著名品牌IONPURE? 原裝美國進口大流量EDI大膜堆,型號為VNX-55EP膜堆。
VNX系列膜堆流量介于6.0m3/h (33 gpm)- 22.7m3/h (100 gpm) ,根據水質條件可以進行流量的優化調節。由于其自身在大水量設計、出水水質優越性、高除硅、高除硼、耐高硬度、系統配置簡化、能耗相對較低以及占地面積小等綜合特點,自2004年上市至今,在各行各業有著成功的運行經驗,尤其是在電子半導體行業有著超過15年以上的廣泛成功應用。當前在中國大陸以外純水及超純水市場行業,VNX大膜堆已經成為大眾客戶公認標配或普遍選擇的重要產品之一。
運行狀態
項目從2015年調試成功運行至今,系統連續穩定運行且出水水質完全滿足終端需求,當前系統性能仍能維持在平均電壓150V,平均電流3A,出水電阻大于15MΩ.cm,得到了韓方面領導和南京工廠管理團隊的一致好評和認可。
02
昆明鋼鐵廠
昆明鋼鐵廠鍋爐補給水項目,投建于2011年,數量2套,每套使用VNX-55EP膜堆3臺,單套水量45m3/h.設備運行狀態良好,2019年10月更換一套裝置,使用最新VNX-MAX膜堆。
優勢特點
板框模塊化集成
集成化程度高
根據需求可隨意組合
可拆解、維護性方便
較普通模塊占地面積更小,節省1/3以上
降低系統安裝工作量,減少系統連接和控制點
安裝、維護更方便,集成度高
系統安全性更高、性能更穩定
運行成本低
舉例150m3/h一套EDI裝置
VNX: 每噸水電耗0.018KWh
小模塊:每噸水電耗0.051KWh
高硬度
給水當量電導率,包括CO2和二氧化硅<100 μS/cm
最高總硬度 (CaCO3)<4.0ppm
最大給水二氧化硅(SiO2)濃度2ppm
提升了CO2脫除能力
多數情況下,可在單向RO滲透下運行
優化了薄電池技術,提高了給水硬度耐受性
運行費用遠低于傳統離子交換/小模塊
穩定保證無泄漏運行
主要產品介紹
VNX系列產品
性能比較
聯系我們:sales.cn@evoqua.com
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總結
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