這篇文章主要介紹euv和duv區別有哪些，文中介紹的非常詳細，具有一定的參考價值，感興趣的小伙伴們一定要看完！

euv和duv區別：1、duv基本上只能做到25nm，而euv能滿足10nm以下的晶圓權制造；2、duv主要利用光的折射原理，而euv利用的光的反射原理，內部必須為真空操作。

euv和duv區別：

1、制程范圍不同

duv：基本上只能做到25nm，Intel憑借雙工作臺的模式做到了10nm，卻無法達到10nm以下。

euv：能滿足10nm以下的晶圓權制造，并且還可以向5nm、3nm繼續延伸。

2、發光原理不同

duv：光源為準分子激光，光源的波長能達到193納米。

euv：激光激發等離子來發射EUV光子，光源的波長則為13.5納米。

3、光路系統不同

duv：主要利用光的折射原理。其中，浸沒式光刻機會在投影透鏡與晶圓之間，填入去離子水，使得193nm的光波等效至134nm。

euv：利用的光的反射原理，內部必須為真空操作。

總結

以上是生活随笔為你收集整理的euv和duv区别有哪些的全部內容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

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