10月25日消息，美國商務部工業安全局（BIS）又對六項新興技術實施了管控，宣布將六項新興技術添加到《出口管理條例》（EAR）的商務部管制清單（CCL）中。這其中包括了極紫外線（EUV）掩模的計算光刻技術軟件和5nm 生產精加工芯片的技術，兩條直指了對芯片的制造的封鎖。

據了解，目前受到出口管制的新興技術總數已經達到了37項。美國商務部在官網發布公告中寫道：“此舉是為了支持關鍵及新興技術這一國家戰略”。

本次被增列商業管制清單的六項新興技術為：

混合增材制造/計算機數控工具

特定的計算光刻軟件

用于為5nm生產精加工晶圓的某些技術

有限的數字取證分析工具

用于監測電信服務通信的某些軟件

亞軌道航天器

目前全世界唯一能生產EUV光刻機的企業只有荷蘭ASML公司，而ASML最大的兩大股東資本國際集團和貝萊德集團都是美國公司，其用于打造EUV光刻機的高精技術也有不少為美國所持有。美國商務部此舉相當于直接封鎖了高端芯片的制造技術，從目前來看，中國作為美國芯片產品最大的采購國之一，受出口管制影響是巨大的。

美國實施出口管制的六大技術，都與芯片制造中最重要的設備光刻機息息相關，尤其是當下5nm芯片已成為高端芯片時代的主流產品，EUV光刻機在半導體制程的重要意義可想而知。（網易科技）

總結

以上是生活随笔為你收集整理的美商务部再禁6项新兴技术，包括光刻软件和5nm生产技术的全部內容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

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