不久前，臺積電官方宣布了 6nm (N6) 工藝節點，在已有 7nm (N7) 工藝的基礎上增強而來，號稱可提供極具競爭力的高性價比，而且能加速產品研發、量產、上市速度。

　　臺積電 CEO 兼副董事長魏哲家(CC Wei)最新披露，絕大多數 7nm 工藝客戶，都會轉向 6nm 工藝，使用率和量產產能都會迅速擴大。

　　考慮到 6nm 工藝沿用了 7nm 工藝的設計規則，升級遷移還是相當容易的，成本增加不大，性能功耗方面又有提升(雖然不會特別明顯)，客戶自然也樂得上新工藝，看起來這代工藝會相當流行。

　　臺積電現在的 7nm 工藝有兩個版本，第一代 7nm (N7) 采用傳統 DUV 光刻技術，第二代 7nm+ (N7+)則是首次加入 EUV 極紫外光刻，已進入試產階段，預計下一代蘋果A、華為麒麟都會用，2019 年兩者合計可貢獻大約 25％ 的收入。

　　新的 6nm 工藝也有 EUV 極紫外光刻技術，相比 7nm+ (N7+)增加了一個極紫外光刻層，同時相比 7nm (N7) 可將晶體管密度提升 18％，而且設計規則完全兼容 7nm (N7)，便于升級遷移，降低成本，相比之下 7nm+ (N7+)則是另一套設計規則。

　　臺積電 6nm 預計 2020 年第一季度試產，再往后的 5nm 工藝也已經開始試產，號稱相比于第一代 7nm 晶體管密度提升 45％，可帶來 15％ 的性能提升或 20％ 的功耗下降。

　　事實上，臺積電預計多數 7nm 工藝客戶會轉向 6nm 然后再次升級到 5nm，7nm+ 則不會那么普及，不少客戶可能會選擇跳過。

總結

以上是生活随笔為你收集整理的台积电：绝大多数7nm客户都会转向6nm的全部內容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

如果覺得生活随笔網站內容還不錯，歡迎將生活随笔推薦給好友。