作者：憲瑞

　　很多人都知道半導體工藝中光刻機是最核心的，因為它決定了半導體工藝的技術水平，而且成本能占到整個芯片的1/3。在進入 7nm 節點之后，光刻機也需要升級到 EUV 光刻機，目前僅有荷蘭 ASML 公司能造，該公司 CEO 表示 EUV 光刻機非常復雜，沒有可能被復制，全球只有 ASML 能生產。

　　據荷蘭媒體報道，在 1 月 22 日的 ASML 財報會議上，ASML 公司 CEO Peter Wennink 談到了 EUV 光刻機的問題，他解釋說 ASML 是 EUV 光刻機的系統集成商，這套設備集成了全球數百家公司的技術，擁有超過 8000 多個零部件，許多零件都是非常復雜的。

　　Peter Wennink 表示，以鏡頭為例（注：物鏡系統是光刻機三大核心之一，其他兩個是激光系統、工作臺），卡爾蔡司為 ASML 提供光學鏡頭，集成了各種反光鏡及光學部件，世界上沒有哪家公司能夠復制他們的技術。

　　Peter Wennink 強調，ASML 的光刻機裝有傳感器，一旦檢測到異常情況就會發出警報。

　　根據 ASML 財報的最新財報，2019 年該公司交付了 26 臺 EUV 光刻機，遠超上一年的 18 臺，預計 2020 年交付 35 臺 EUV 光刻機，2021 年則會達到 45 臺到 50 臺的交付量，是 2019 年的兩倍左右。

總結

以上是生活随笔為你收集整理的ASML：EUV光刻机非常复杂 只有我们能造出来的全部內容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

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