台积电年报首度提及2nm技术 去年开始研发
【TechWeb】4月24日消息,據(jù)臺(tái)灣媒體報(bào)道,臺(tái)積電近日上傳了2019年年報(bào),并在年報(bào)中首度提及2nm技術(shù)。
在2018年年報(bào)中,臺(tái)積電的表述為,公司3nm技術(shù)已進(jìn)入全面開發(fā)階段,而3nm以下的技術(shù)已開始定義并密集進(jìn)行先期開發(fā)。
在2019年年報(bào)中,臺(tái)積電表示,當(dāng)臺(tái)積電公司采用三維電晶體之第六代技術(shù)平臺(tái)的3nm技術(shù)持續(xù)全面開發(fā)時(shí),公司已開始開發(fā)領(lǐng)先半導(dǎo)體業(yè)界的2nm技術(shù),同時(shí)針對(duì)2nm以下的技術(shù)進(jìn)行探索性研究。
關(guān)于3nm制程技術(shù),臺(tái)積電表示,相較于5nm制程技術(shù),3nm制程技術(shù)大幅提升晶片密度及降低功耗并維持相同的晶片效能。2019年,臺(tái)積電的研發(fā)著重于基礎(chǔ)制程制定、良率提升、電晶體及導(dǎo)線效能改善以及可靠性評(píng)估。臺(tái)積電表示,今年將持續(xù)進(jìn)行3nm制程技術(shù)的全面開發(fā)。
臺(tái)積電未詳細(xì)介紹2nm制程技術(shù)。
關(guān)于微影技術(shù),臺(tái)積電表示,去年,微影技術(shù)研發(fā)的重點(diǎn)在于5nm的技術(shù)轉(zhuǎn)移、3nm技術(shù)的開發(fā)及2 nm以下技術(shù)開發(fā)的先期準(zhǔn)備。5nm技術(shù)已經(jīng)順利地移轉(zhuǎn),研發(fā)單位與晶圓廠合作排除極紫外光微影量產(chǎn)問題。
總結(jié)
以上是生活随笔為你收集整理的台积电年报首度提及2nm技术 去年开始研发的全部?jī)?nèi)容,希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。
- 上一篇: 拼多多又开始卖车:凯迪拉克打五五折 最少
- 下一篇: 台媒:华为砍订单 联咏科技稳懋半导体业绩