三星新建5nm晶圆厂:先进EUV技术 2021年投产
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三星新建5nm晶圆厂:先进EUV技术 2021年投产
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隨著時間邁入2020年中,以臺積電和三星為代表的芯片半導體也從7nm逐步向5nm進發,實際上麒麟1020和蘋果A14芯片就是基于臺積電5nm工藝,表現相較7nm將會更上一層樓。
很明顯在7nm時代,三星是落后于臺積電的,不過這家巨頭似乎想在5nm時代彎道超車,近日據媒體報道,三星宣布將于漢城南部的平澤市建造全新的5nm晶圓廠。
該工廠是三星在韓國國內的第六條晶圓代工產線,將應用先進的極紫外光微影(ExtremeUltravioletlithography,EUV)制程技術,拿7nmEUV工藝對比,三星5nmEUV工藝的性能提升10%,功耗降低了20%,邏輯面積效率提升25%。
三星表示這座工廠將于2021年下半年投產,產品主要應用于5G網絡和高效能運算方面。
三星的野心不止于此,在規劃中的3nm時代,三星果斷拋棄了FinFET,押寶GAA環繞柵極晶體管技術,試圖反超臺積電。
總結
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