ASML将赴韩国建EUV设备再制厂及培训中心:预计2025年建成
據(jù)媒體報導,5月13日韓國產(chǎn)業(yè)通商資源部(The Ministry of Trade, Industry and Energy,MOTIE)對外宣布,全球光刻機龍頭大廠阿斯麥(ASML)計劃赴韓國打造EUV 再制造(remanufacturing)廠及培訓中心。
據(jù)介紹,ASML未來4年將在韓國投資2,400億韓元(2.1億美元),于京畿道華城市打造一座EUV光刻設(shè)備再制造廠以及一家培訓中心。所謂再制造,是指通過必要的拆卸、檢修和零部件更換等,將廢舊產(chǎn)品恢復如新的過程。
想要打造先進制程的半導體生產(chǎn)線,一定要設(shè)法取得關(guān)鍵半導體設(shè)備。應用材料、ASML、泛林半導體、東京電子是全球前四大半導體設(shè)備廠商,總體的市占率高達60%左右。問題是,這些半導體設(shè)備廠每年只能生產(chǎn)一定數(shù)量的機臺,交貨時間也比較長。
特別是對于7nm以下先進制程所必須的EUV光刻機來說,目前ASML是全球唯一一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機的半導體設(shè)備供應商。但是目前ASML的EUV光刻機產(chǎn)能十分有限,一年只能生產(chǎn)30臺左右EUV光刻機。
據(jù)媒體報道稱,目前臺積電已取得了50臺EUV設(shè)備,而三星僅有10臺。
此次ASML計劃在韓國新建的EUV再制廠,主要用途就是為韓國當?shù)剡\行的EUV光刻機維護、升級提供助力。
據(jù)了解,韓國MOTIE及京畿道政府將針對ASML的授權(quán)、擴張當?shù)貥I(yè)務事宜提供協(xié)助。而上述設(shè)施預計2025年底前落成,未來將在韓國聘用超過??300名專業(yè)人才。
另外值得一提的是,報道還指出,目前美國半導體設(shè)備大廠泛林半導體(Lam Research Corp.)將擴大對韓國的投資南。報道引述業(yè)界消息指出,泛林半導體已將韓國的生產(chǎn)目標提高一倍,正在尋找合適的地點建立新廠,以便擴充產(chǎn)能。
總結(jié)
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