史上第一次 Intel将为高通代工芯片:直奔2大革命性工艺
在今天凌晨的工藝及封裝技術(shù)大會上,Intel公布了最新的工藝路線圖,命名方式也全面改了,比如10nm ESF工藝改名為Intel 7,7nm工藝改為Intel 4等等,在宣傳上這次跟臺積電、三星對等了。
除了全新路線圖之外,Intel的IFS代工業(yè)務(wù)也收獲了一個重要客戶,高通將使用Intel的代工服務(wù),這還是開天辟地頭一次,Intel重整代工業(yè)務(wù)以來這是目前最大、最重要的客戶。
不過大家看到Intel生產(chǎn)的高通芯片還很遙遠,因為高通使用的是Intel未來的Intel 20A工藝,至少要到2024年才能量產(chǎn),不跳票的話還得等上3年時間。
等這么久的原因是Intel的20A工藝變化太大,放棄了FinFET工藝,轉(zhuǎn)向了GAA晶體管,Intel開發(fā)出了兩大革命性技術(shù),分別是RibbonFET、PowerVia。
其中PowerVia是Intel獨有的、業(yè)界首個背面電能傳輸網(wǎng)絡(luò),通過消除晶圓正面供電布線需求來優(yōu)化信號傳輸。
RibbonFET是Intel對GAA晶體管的實現(xiàn),它將成為公司自2011年率先推出FinFET以來的首個全新晶體管架構(gòu)。該技術(shù)加快了晶體管開關(guān)速度,同時實現(xiàn)與多鰭結(jié)構(gòu)相同的驅(qū)動電流,但占用的空間更小。
總結(jié)
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