CPU、GPU為代表的邏輯工藝制程進(jìn)入7nm之后，EUV光刻工藝是少不了的，現(xiàn)在內(nèi)存還停留在10nm工藝級(jí)別，暫時(shí)沒(méi)用到EUV工藝。不過(guò)三星、SK海力士及美光也確定未來(lái)會(huì)用，其中美光的EUV工藝內(nèi)存在2024年量產(chǎn)。

美光CEO Sanjay Mehrotra日前在采訪中確認(rèn)，美光已將EUV技術(shù)納入DRAM技術(shù)藍(lán)圖，將由10nm世代中的1γ（gamma）工藝節(jié)點(diǎn)開(kāi)始導(dǎo)入。

美光EUV工藝DRAM將會(huì)先在臺(tái)中A3廠生產(chǎn)，預(yù)計(jì)2024年進(jìn)入量產(chǎn)階段。

注意，這個(gè)是1γ工藝，不是之前的1y工藝，10nm級(jí)別的內(nèi)存工藝中前三代是1x、1y、1z，再往后是1a、1β、1γ等。

在美光之前，三星及SK海力士都更早進(jìn)入了EUV節(jié)點(diǎn)，從去年底就開(kāi)始部署EUV光刻工藝了，而且比美光更激進(jìn)，最快在1a工藝節(jié)點(diǎn)就會(huì)量產(chǎn)EUV內(nèi)存芯片。

總結(jié)

以上是生活随笔為你收集整理的1γ节点开始导入 美光确认EUV工艺DRAM内存芯片2024年量产的全部?jī)?nèi)容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問(wèn)題。

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