0 引言

中國《集成電路布圖設計保護條例》第四條規(guī)定：“受保護的集成電路布圖設計應當具有獨創(chuàng)性，即該集成電路布圖設計是創(chuàng)作者自己智力勞動成果，并且在其創(chuàng)作時該集成電路布圖設計在集成電路布圖設計創(chuàng)作者和集成電路制造者中不是公認的常規(guī)設計。受保護的由常規(guī)設計組成的集成電路布圖設計，其組合作為整體應當符合前款規(guī)定的條件。”

其中，獨創(chuàng)性首先要具備獨立創(chuàng)作性，即布圖設計是創(chuàng)作者獨立創(chuàng)作，這是對創(chuàng)作者的主觀要求；其次，還要具備非常規(guī)設計性，即對于布圖設計創(chuàng)作者和集成電路制造者來說，該項布圖設計作為整體或者其部分與公認的常規(guī)設計對比，二者在圖層數量、布局、連線、模塊、元件等技術細節(jié)上具有實質性區(qū)別，這是獲得專有權的客觀要求。公認的常規(guī)設計，是指在創(chuàng)作布圖設計時布圖設計創(chuàng)作者和集成電路制造者能夠從布圖設計領域的教科書、技術詞典、技術手冊、通用標準、通用模塊等資料中獲取的設計以及根據基本的設計原理容易想到的設計。

獨創(chuàng)性是集成電路布圖設計受到保護所需滿足的要件，其標準應當介乎于專利法的創(chuàng)造性和著作權法的獨創(chuàng)性之間。無論是判斷享有專有權的布圖設計的獨創(chuàng)性部分，還是判斷反向工程的布圖設計是否具有獨創(chuàng)性，都需要滿足保護條例第四條的規(guī)定。

1 布圖設計的獨創(chuàng)性要件

根據保護條例第四條規(guī)定的獨創(chuàng)性包括獨立創(chuàng)作性和非常規(guī)設計性。

1.1獨立創(chuàng)作性——不能抄襲，不要求首創(chuàng)

（1）非抄襲。“布圖設計是創(chuàng)作者自己的智力勞動成果”，即布圖設計從無到有獨立地創(chuàng)造出來的，或以他人己有作品為基礎進行再創(chuàng)作，并非抄襲、剽竊得來。集成電路布圖設計專有權是一種私權，具有一定的排他性，這就決定了對他人的智力勞動成果和公有領域的知識不能據為己有。集成電路布圖設計專有權的保護目的是鼓勵表達方式的多樣化和技術的先進性，而抄襲和復制是與多樣化和先進性完全相悖的行為。因此專有權的獲得應建立在獨立創(chuàng)作的基礎上，所以集成電路布圖設計的獨立創(chuàng)作性要求創(chuàng)作者思想的獨立表達，而非對其它作品的抄襲，和簡單模仿。

（2）不需要首創(chuàng)。集成電路布圖設計的獨立創(chuàng)作性僅強調集成電路布圖設計是獨立原創(chuàng)完成的，而并不要求是首創(chuàng)的。如果在第一布圖設計成功出來后，第二創(chuàng)作者經過辛苦和努力也制作了同樣的布圖設計，且和第一布圖設計者并沒有接觸，那么這樣創(chuàng)作的作品也是受到保護的。這不同于專利法中新穎性，并不排斥保護兩個以上各自獨立創(chuàng)作取得但內容非常相近甚至完全相同的集成電路布圖設計。但是要注意獨立創(chuàng)作不能違背集成電路布圖設計專有權不保護公有領域的常規(guī)設計。

因此，從獨立創(chuàng)作性的角度來看，只要求創(chuàng)作者在接觸了他人類似集成電路布圖設計的情況下，保證表達不同即可，設計思想可以完全相同；在不接觸他人類似集成電路布圖設計的情況下，設計思想和表達均可相同。因此，獨立創(chuàng)作是對創(chuàng)作者在集成電路布圖設計創(chuàng)作中的主觀要求。

1.2非常規(guī)設計——不是公知設計

公認的常規(guī)設計，是指在創(chuàng)作布圖設計時布圖設計創(chuàng)作者和集成電路制造者能夠從布圖設計領域的教科書、技術詞典、技術手冊、通用標準、通用模塊等資料中獲取的設計以及根據基本的設計原理容易想到的設計。“非常規(guī)設計”要求布圖設計必須有別于已被人們熟知的公知布圖設計，而這種差異性當然是相比較于公知布圖設計體現出的先進性。常規(guī)設計的設計技術一般已比較成熟，采用公知布圖設計不論在資金還是在精力上的投入都相對較低。因此，集成電路布圖設計的“非常規(guī)性”意味著必須投入大量的創(chuàng)造性勞動。

集成電路布圖設計的獨創(chuàng)性要求應高于著作權對作品的獨創(chuàng)性要求，低于專利法對發(fā)明的創(chuàng)造性要求。

2 獨創(chuàng)性的判斷方法

對于一項不是由常規(guī)設計組成的集成電路布圖設計，在判斷其是否具有獨創(chuàng)性時，首先要判斷該布圖設計是否體現創(chuàng)作者的智力勞動成果，如果一項布圖設計與現有布圖設計基本上相同，且又有證據表明該布圖設計的創(chuàng)作者有接觸在先布圖設計的可能性，那么應當認為兩者“相同部分”不屬于創(chuàng)作者的智力勞動成果，此時如果二者之間的設計區(qū)別部分為公認的常規(guī)設計，則認為該布圖設計不具有獨創(chuàng)性。

因此，在有證據表明布圖設計的創(chuàng)作者有接觸在先布圖設計的可能性的情況下，對于該布圖設計與創(chuàng)作者可能接觸到的現有布圖設計相同部分，不再考慮其是否給布圖設計帶來獨創(chuàng)性貢獻；對于區(qū)別部分，還應剔除法律不予保護的部分，其中，不予保護的區(qū)別部分包括“思想、處理過程、操作方法、或者數學概念”以及“唯一或有限的表達”；然后判定剩余的區(qū)別部分是否是公認的常規(guī)設計，如果是則不具備獨創(chuàng)性，反之，則具備獨創(chuàng)性。

根據專利復審委公布的集成電路布圖設計撤銷案件審查決定(第2-3號)，可以總結布圖設計獨創(chuàng)性的判定具體步驟為：

第一步：受保護的布圖設計與現有集成電路布圖設計的比較
對于該布圖設計與現有布圖設計的相同部分，鑒于該布圖設計在創(chuàng)作時存在接觸參照現有布圖設計的可能性，相同的部分不能作該本布圖設計的創(chuàng)作者自己的智力勞動成果。因此，在評價獨創(chuàng)性時，對于二者相同的部分，不再考慮其是否給該布圖設計帶來獨創(chuàng)性貢獻。

第二步：確定二者之間的設計區(qū)別部分
根據集成電路布圖設計保護條例第五條的規(guī)定：對布圖設計的保護，不延及思想、處理過程、操作方法、或者數學概念。其中，區(qū)別部分中的“思想、處理過程、操作方法、或者數學概念”屬于不予保護范圍，不予考慮，如制作工藝所產生的面積差異、寸方差異等屬于條例不予保護的范疇。法律也不保護唯一或有限的表達，屬于唯一或有限的表達的區(qū)別部分內容也應剔除。

對于集成電路布圖設計思想表達的劃分，尤其需要注意將集成電路布圖設計中的邏輯結構劃分為思想的表達。在獨創(chuàng)性判斷時不予考慮。

第三步：判斷剩余區(qū)別部分是否為公認的常規(guī)設計
判斷剩余區(qū)別部分是否為常規(guī)設計的參照物范圍僅局限在集成電路布圖設計和集成電路制造領域內公認的常規(guī)設計，而不能引入其它非常規(guī)布圖設計，參照物可以不局限于一個常規(guī)設計，即可以參用多對一的方式。判斷應當采用整體判斷的方法，充分考慮集成電路布圖設計的邏輯結構關系，尤其在采用多對一的方式進行比較時，需要考慮多個常規(guī)設計的結合是否常規(guī)。判斷應當考慮集成電路布圖設計的工業(yè)實用性，對于集成電路布圖設計的三維配置雖然與公認的常規(guī)設計或采用常規(guī)設計的常規(guī)組合獲得的集成電路布圖設計有所不同，但是采用該集成電路布圖設計制造出來的集成電路的集成度反而有明顯降低時，則認為其不具有工業(yè)實用性而不具有獨創(chuàng)性

上述對集成電路布圖設計是否具有獨創(chuàng)性的判斷方法實際上是在考慮以下兩個因素的結果上得出的：第一，集成電路布圖設計的保護范疇限于思想的表達，第二，集成電路布圖設計具有工業(yè)應用性，對集成電路布圖設計的保護應當主要集中在對具有技術進步的集成電路布圖設計的保護。

3 侵權判定

在集成電路布圖設計侵權判定的過程中，需要對專有權人布圖設計的獨創(chuàng)性進行審查。對于獨創(chuàng)性的判斷，應當由專有權人提供初步的證據初步證明其布圖設計具有獨創(chuàng)性。然后舉證責任轉移到被控侵權人，由其舉證反駁布圖設計的獨創(chuàng)性。將專有權人布圖設計與被控侵權人提供的常規(guī)設計進行比較時，應當關注圖層數量、布局、連線、模塊、元件等技術細節(jié)上是否具有實質性的區(qū)別。

受保護的布圖沒計中任何具有獨創(chuàng)性的部分均受法律保護，而不論論其在整個布圖設計中的大小或者所起的作用。被控侵權集成電路的對應部分與受保護的布圖設計中具有獨創(chuàng)性的部分存在實質相似，即可認定為侵權。

3.1非比例標準——任何獨創(chuàng)性的部分均受保護

保護條例第三十條規(guī)定，除本條例另有規(guī)定的外，未經布圖設計權利人許可，有下列行為之一的，行為人必須立即停止侵權行為，并承擔賠償責任：（一）復制受保護的布圖設計的全部或者其中任何具有獨創(chuàng)性的部分的；（二）為商業(yè)目的進口、銷售或者以其他方式提供受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品的。

《中國知識產權指導案例評注》對被復制部分占整個布圖設計的比例以及重要性進行了解釋：依據文意解釋，理解為只要是布圖設計中具有獨創(chuàng)性大部分，無論該部分占整個布圖設計的比例是多少或是該部分是整個布圖設計的核心部分，都受到專有權的保護。

美國是將其《版權法》中的實質性相似原則平行適用于集成電路布圖設計保護，在美國Brooktree集成電路布圖設計侵權案中，判決書認為“雖然沒有硬性快速的標準或者百分比來判斷何為實質性相似，但是即使對于整塊芯片來說被復制的百分比相當小，實質性相似仍可能因為該掩膜作品被復制部分很重要而存在”。從這個判例看，在美國，只要是布圖設計的核心部分，無論該部分占整個集成電路布圖設計的體積的百分比是多少，都受到保護。中國宜應如此。

3.2實質相似——與獨創(chuàng)性部分比較

受保護的布圖設計的全部或者其中任何具有獨創(chuàng)性的部分，與被控侵權集成電路布圖設計對比，如果存在“極為相似”的情形下，則認定構成“實質相似”。需要注意的是，在對比兩項布圖設計是否鉤成“實質相似”的時候，是已經剔除思想、處理過程、操作方法或數學概念的因素，純粹考慮布圖設計中的元件和部分或者全部互連線路的三維配置。對于集成電路而言，思想因素一般體現在每一集成電路最基本的功能、結構、技術等所謂“概念層次”上，這些內容將不被保護。另外，對于在一定條件下表達形式確實有限甚至唯一的布圖設計，也不屬于判斷實質相似的范疇。

在進行“實質性相似”判斷時，優(yōu)先考慮電子元件的三維配置關系，即電子元件所呈現的組合在三維空間的配置關系。但如果連線的差異對于性能產生影啊足夠大，則三維配置有差異，布圖設計不構成實質性相似。

3.3反向工程——法定侵權抗辯理由

布圖設計的反向工程一直被認為是一種公平的、可接受的行為，己經成為集成電路布圖設計行業(yè)的傳統。反向工程不僅可以促進市場公平競爭，還可以向公眾提供“第二供貨來源”的芯片產品，對公眾來說是有益的。保護條例第二十三條規(guī)定反向工程不視為侵權：下列行為可以不經布圖設計權利人許可，不向其支付報酬：（一）為個人目的或者單純?yōu)樵u價、分析、研究、教學等目的而復制受保護的布圖設計的；（二）在依據前項評價、分析受保護的布圖設計的基礎上，創(chuàng)作出具有獨創(chuàng)性的布圖設計的；（三）對自己獨立創(chuàng)作的與他人相同的布圖設計進行復制或者將其投入商業(yè)利用的。

反向工程是布圖設計侵權的一個抗辯理由。根據保護條例第二十三條第二項，如果被控侵權布圖設計與受保護布圖設計“實質性相同”，則被控侵權布圖設計認定為單純的復制抄襲而來，其必然不具有獨創(chuàng)性，反向工程抗辯不成立，即侵權成立。當被控侵權布圖設計與受保護布圖設計不“實質性相同”時，此時應進行獨創(chuàng)性判斷：將受保護布圖設計作為現有集成電路布圖設計，判定被控侵權布圖設計是否具有獨創(chuàng)性，如果具有獨創(chuàng)性，反向工程抗辯成立，即被控侵權布圖設計侵權不成立。

4小結與討論

集成電路布圖設計的獨創(chuàng)性，需要滿足原創(chuàng)性和非常規(guī)設計性。其中原創(chuàng)不是首創(chuàng)，在并不排斥保護兩個以上各自獨立創(chuàng)作取得但內容非常相近甚至完全相同的集成電路布圖設計。常規(guī)設計的判斷標準類似于專利法公知常識判斷，不能引入其它非常規(guī)布圖設計，獨創(chuàng)性的高度低于專利法中創(chuàng)造性的高度。

布圖設計獨創(chuàng)性判斷方法參可照專利法創(chuàng)造性的“三部法”，經對比的相同的部分，不再考慮其是否給布圖設計帶來獨創(chuàng)性貢獻；對于區(qū)別部分，先進行抽象和過濾，然后對剩余區(qū)別部分進行判定，以確定該剩余區(qū)別部分是否是常規(guī)布圖設計，從而完成獨創(chuàng)性判斷。

受保護的集成電路布圖設計中任何具有獨創(chuàng)性的部分均受法律保護，而不論其在整個布圖設計中的大小或者所起的作用。由于集成電路布圖設計的創(chuàng)新空間有限，在布圖設設計侵權判定中對于兩個布圖設計構成相同或者實質性相似的認定應采用較為嚴格的標準。

在侵權判定中需要對受保護的布圖設計進行獨創(chuàng)性判斷，并對具有獨創(chuàng)性的全部或者部分布圖設計與被控集成電路比較，以判定是否存在實質相似部分。由權利人完成具有獨創(chuàng)性的舉證責任，反駁原告布圖設計獨創(chuàng)性的舉證責任轉移到被控侵權方。

反向工程是布圖設計侵權的一個抗辯理由，將受保護布圖設計作為現有集成電路布圖設計，判定被控侵權布圖設計是否具有獨創(chuàng)性，如果具有獨創(chuàng)性，反向工程抗辯成立。

參考文件
1.集成電路布圖設計專有權撤銷審查辦法 (草案),2015.
2.中國知識產權指導案例評注,第七輯,第46-67頁.
3.集成電路布圖設計的侵權判斷標準研究,龔雪怡,2015.
4.(2014)高行終字第459號,北京高級人民法院.
5.集成電路布圖設計撤銷案件審查決定(第2-3號).
6.集成電路布圖設計獨創(chuàng)性問題研究,胡航慶,2011.
7.集成電路布圖設計獨創(chuàng)性的認定,黃晶晶,2014.

本文作者：泊頭子 2018.8.3
微信公眾號：專利方舟
本公眾號已經開通“專利問答”欄目，如有專利方面的問題可向作者提問，分享交流。詳情見《本公眾號擬開通“專利問答”欄目的通知》。

總結

以上是生活随笔為你收集整理的集成电路布图设计独创性判断标准的全部內容，希望文章能夠幫你解決所遇到的問題。

如果覺得生活随笔網站內容還不錯，歡迎將生活随笔推薦給好友。