7nm+/6nm/5nm随便选 AMD面临幸福的烦恼
曾經(jīng),先進(jìn)的制造工藝是 Intel 狠狠壓制 AMD 乃至整個(gè)半導(dǎo)體行業(yè)的絕對(duì)大殺器,但現(xiàn)在完全反了過(guò)來(lái)。Intel 14nm 工藝遭遇前所未有危機(jī),至今未能量產(chǎn),而臺(tái)積電、三星一路狂奔,10nm、7nm、5nm 相繼上馬。雖然不同家的工藝技術(shù)不能完全看一個(gè)單純的數(shù)字,但不得不承認(rèn) Intel 確實(shí)被越甩越遠(yuǎn)。
GlobalFoundries 放棄 7nm、5nm 先進(jìn)工藝研發(fā)后,AMD 轉(zhuǎn)向了臺(tái)積電,這次算是傍上了大樹(shù),接下來(lái)的從桌面到服務(wù)器再到筆記本,從處理器到顯卡,統(tǒng)統(tǒng)都是臺(tái)積電 7nm。
7nm 之后,臺(tái)積電更是還有 7nm+ EUV、6nm、5nm,可以讓 AMD 隨意選擇,AMD 路線(xiàn)圖上的再下代架構(gòu) Zen 3 一直標(biāo)注著 7nm+ 工藝,一直讓人遐想。
臺(tái)積電 7nm 工藝有兩代,目前是采用傳統(tǒng) DUV 光刻的第一代(N7),第二代(N7+)則會(huì)首次上 EUV 極紫外光刻,已經(jīng)開(kāi)始試產(chǎn),明年就能量產(chǎn),可將晶體管密度提升 20%,能效提升 10%。
不過(guò),我們一直不能確定 AMD Zen 3 架構(gòu)所用的 7nm+,是泛指比 7nm 更新的工藝,還是臺(tái)積電口中的升級(jí)版二代 7nm,但無(wú)論哪一種,結(jié)合新架構(gòu)都會(huì)帶來(lái)極大的提升。
更讓人激動(dòng)的是 5nm 工藝,臺(tái)積電已經(jīng)開(kāi)始試產(chǎn),將于 2020 年底之前量產(chǎn),如果 Zen 4 架構(gòu)能夠用上,恐怕 Intel 是別想翻身了。
按照臺(tái)積電的說(shuō)法,5nm 相比于 7nm 可以將晶體管密度增加多達(dá) 80%,整體性能提升 15%,同時(shí)核心面積縮小 45%。
雖然這是在 ARM A72 核心上得到的數(shù)據(jù),AMD Zen 上應(yīng)該不會(huì)這么多,但如果真的 Zen 4、5nm 雙劍合璧,簡(jiǎn)直不敢想象結(jié)果會(huì)有多美。
當(dāng)然還有 6nm 工藝可選,明年第一季度試產(chǎn),相比 7nm 晶體管密度可提升 18%,而且平臺(tái)完全兼容 7nm,升級(jí)遷移更加容易。
總結(jié)
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